![](https://www.ikerbasque.net/sites/default/files/graphene-6236691_640.jpg)
POLYMAT zentroari nahiz Euskal Herriko Unibertsitateari atxikitako Ikerbasqueko ikertzaile Aurelio Mateo Alonso irakaslearen ikerketa-taldeko kideek, Polimeroen Ikerketarako Max Planck Institutuko (Alemania) eta Aveiroko Unibertsitateko (Portugal) ikertzaileekin batera, doitasun handiko grafeno-nanozintak ekoizteko metodo berri bati buruzko duen artikulua argitaratu dute Chem aldizkarian.
Grafenoaren aurkikuntzak aukera ugari zabaldu ditu material berrien garapenari dagokionez. Grafenoa tamaina nanometrikoko zintetan mozten denean (grafeno-nanozintak), propietate elektriko eta magnetiko desberdinak dituzten materialak lor daitezke, zinten ertzak ebakitzeko moduaren nahiz zinten zabaleraren eta luzeraren arabera. Horren harira, garrantzi handikoa da grafeno-nanozintak doitasun atomikoarekin ekoizteko moduko metodoak garatzea, horien aplikazio potentzialak garatze aldera. Material berri horiei esker, gailu elektroniko eta espintronikoak miniaturizatu ahal izango dira, eta hau funtsezkoa da elektronikaren zein konputazio kuantikoaren arloko teknologia berriak garatu ahal izateko.
POLYMAT, UPV/EHU, Polimeroen Ikerketarako Max Planck Institutua (Alemania) eta Aveiroko Unibertsitatea (Portugal) tarteko dituen ikertzaile-talde batek grafeno-nanozintak sintetizatzeko metodo berri bat garatu du, doitasunari zein luzerari dagozkien marka guztiak hautsiz. Metodo berri honek 2 nanometroko nanozinta osagarriak konbinatu ditu, Legoko piezak balira bezalaxe, erabateko doitasun atomikoa duten 36 nanometroko nanozintak sortzeko.
Zintak zenbat eta luzeagoak izan, orduan eta eroankortasun elektriko handiagoa dute, eta honek eraginkortasun handiagoko gailu elektroniko berrien garapena ekar lezake. Gainera, argia xurgatu eta igortzeko ezohiko propietateak dituzte, puntu kuantikoenak baino dexente handiagoak, eta ondorioz, grafeno-nanozintak energian, LED teknologian, medikuntza-irudian eta beste eremu batzuetan aplika litezke etorkizunean.
Erreferentzia bibliografikoa
R. K. Dubey et al. Chem 2023, DOI: 10.1016/j.chempr.2023.06.017